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擴散爐
擴散爐應用于半導體分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規模集成電路制造領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸。
產品特點
● 可保存多條工藝曲線，每條曲線可設置多步
● 工藝曲線的自動運行控制功能
● 工藝中可強制跳到下一工藝步運行功能
● 自動運行中可暫停／繼續運行功能
● 可存儲多組PID參數供系統運行調用功能
● PID參數自整定功能
● 工藝氣體的程序控制功能
● 關鍵部件全部具有高可靠性
● 具有良好的人機界面
● 系統故障自診功能
● 停電后斷點繼續運行功能等等
● 具有歷史記錄功能，可打印
● 具有多點溫度補償
● 可根據用戶的特殊要求增減開發相應的功能
技術指標
● 可配置工藝管外徑2～8英寸
● 可配置工藝管數量：1～4管/臺
● 工作溫度范圍：400～1300℃
● 恒溫區長度：300～1250mm
● 恒溫區精度：±0.5℃（800～1300℃）
● 單點溫度穩定性：±0.5℃/24h（800～1300℃）
● 最大可控升溫速率：15℃/min
● 最大降溫速率：5℃/min
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